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リソグラフィ技術 2日間集中セミナー

4月27日(木)、28日(金)の2日間

  • 日時:2017/04/27(木)  13:00~  2017/04/28(金) 12:00
  • セミナー番号:ST170427
  • 主催:リソテックジャパン(株),S&T出版(株) ※事務局:S&T出版(株)
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本セミナーの趣旨  2017年は半導体の量産化が始まって40年となります。著名な先生方もリタイアする年齢を迎えており、貴重な経験談や資料が失われつつあります。そこで、リソグラフィ技術の黎明期を知っているパイオニア的な先生方から、リソグラフィ技術の基礎から最新技術まで学べるセミナーを企画いたしました。リソグラフィ技術それぞれのターニングポイントと、それらをどう乗り越えたか、材料開発の歴史なども語っていただきます。
 本セミナーは、リソグラフィ技術の本髄が学べるだけでなく、先達の研究の取組方についても直接語り合える場としても、若い研究者の方々にとって今後の研究活動に活かせる貴重な機会になると確信しております。
 企業の将来を担う方々のご参加をお待ちしております。
プログラム

第1部 4/27 13:35-14:35
リソグラフィー40年の歴史を振り返って

岡崎 信次 氏
元 ギガフォトン(株)>講師略歴

今年でMooreの法則から52年、DenardのScaling則から43年になる。この間、半導体集積回路の微細化は、Rayleighの法則に則り、高NA化、短波長化、解像度向上技術の進化がこれを支え、最近ではマルチプルパターニング技術が利用されている。ただしコストや工程数の増加など課題も多く、次世代のEUV露光技術の早期実用化が求められている。講演では、これらの経緯と今後の開発の行方を議論する。

第2部 4/27 14:35-15:25
g線レジスト開発と歴史

田中 初幸 氏
メルクパフォーマンスマテリアルズ(株) 誘電材料研究開発部門 マネジャー>講師略歴

私が半導体リソグラフィー材料に携わる仕事に就いたのは、今をさかのぼること40年ほど前になる。当時は256kDRAMが量産されていた時代であった、その頃のリソグラフィー用レジスト材料としてはゴム系ネガレジストからポジレジストに代わっていく過渡期であった。ここではポジレジストの露光装置としてアライナーからg線ステッパーに代わり、露光装置に合わせたレジスト材料の開発が盛んに為された時期であったが、当時の開発の様子をご紹介したい。

第3部 4/27 15:40-16:30
i線レジスト開発と歴史

花畑 誠 氏
富山県立大学 工学部 客員教授>講師略歴

g線の次はEB(電子線)と言われていたにもかかわらずi線が長く用いられた理由、またg線からi線に移行した経緯や材料開発での工夫をこれまであまり公表されてこなかった裏話を交えてお話ししたい。

第4部 4/27 16:30-17:20
KrFレジスト開発と歴史

鴨志田 洋一 氏
神奈川大学 工学部 講師>講師略歴

レジスト材料の高解像度化は、露光に用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。KrFエキシマレーザを光源としたKrFエキシマレーザリソグラフィを実現するためには新しいレジストシステムである化学増幅型のレジストの開発とこれを使いこなすための多くのイノベーションが必要であった。ノボラック系のi線レジストからKrFレジストにたどり着くまでの研究開発の歴史をハードウェア、プロセス技術の進歩も含めて俯瞰する。

第5部 4/27 17:20-18:10
ArFレジスト開発と歴史

野崎 耕司 氏
富士通(株) 法務・コンプライアンス・知的財産本部 R&D情報統括部 シニアマネージャー>講師略歴

2003年ごろからLSIの量産製造に使用され始めたArFレジストの開発は、1980年代の終わりごろから米国と日本を中心に始まりました。講演では、従来のフェノール性樹脂が不透明なArF光に対して、透明性とドライエッチング耐性を両立できる基材樹脂の化学構造を創製したアプローチを中心に、競合各社の動向も交えながらご紹介いたします。

第6部 4/28 9:00-9:50
EUVレジスト開発と歴史

渡邊 健夫 氏
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長・教授
極端紫外線リソグラフィ研究開発センター長>講師略歴

EUVレジストは10 nm以下の半導体微細加工技術の量産技術として使用される予定になっています。この中で、EUVレジスト開発課題は光源技術の次いで高い優先順位にランクされています。講演ではEUVレジスト開発の歴史を交え、開発の現状と今後の展望について紹介します。また、今後の微細化の必要性についてIoTの観点から論じます。

第7部 4/28 9:50-10:40
黎明期~ ステッパ開発の裏側 ステッパ開発の裏側およびシミュレーョンの歴史

関口 淳 氏
リソテックジャパン(株) ナノサイエンスグループ 専務取締役兼ナノサイエンスグループ長>講師略歴

1977年、USで世界初のステッパが誕生しました。それから、半導体の量産は始まります。本講座ではステッパの誕生秘話を絡めて、ステッパ開発の歴史、日本のお家芸だった、日本の半導体メーカーとステッパの関わりについてお話します。また、後半パートでは、リソグラフィー・シミュレーションソフトウェアで有名なPROLITHの生みの親、クリスマック氏のPROLITH誕生秘話と、その後のシミュレータの発展についてご紹介いたします。

第8部 4/28 10:40-11:40
リソグラフィ 技術 の進む先

上野 巧 氏
信州大学 ファイバーイノベーション・インキュベーター 特任教授>講師略歴

LSIの進展により生活は大きく変わりました。その進展を支えたリソグラフィ・レジスト開発の歴史とその転換点をお話します。さらなる微細化に向けたレジスト開発の課題ついても考えたいと思います。また、ムーア則の限界ともいわれるようになり、パッケージの役割も重要になってきました。パッケージ分野における感光性材料の利用についても目を向けます。

会場ホテル・フロラシオン那須 栃木県那須郡那須町大字高久丙1796

MAP

那須塩原駅から車で30分(無料送迎バスをご利用ください)
受講料
(税込)
1名参加:84,800円(80,000円) 2名参加:162,000円(153,000円) 3名参加:237,600円(225,000円) )※「( )」内はEメール案内会員(Eメール案内を希望する方)の受講料 ※27日宿泊費、27日夕食、28日朝食代、資料代含む
○宿泊は2名1室です。
 1人部屋をご希望の方は10,000円追加になります(部屋数に限りがありますので1人部屋をご希望の方はお早目にお申込みください)。
○複数名申込のご注意事項
 2名様以上の申込み受講料は同一法人からの申込に限定させていただきます。
 同一会社で3名お申込みの方は3名1室も承ります。3名様合計で4,500円割引になります。
備考①定 員:20名
備考②            <スケジュール>
4月 27日(木)
12:35 那須塩原駅 → ホテル 無料送迎バス
13:00 受付開始
13:30~18:10 セミナー
19:10~20:40  夕食
※夕食後に講師の方々と意見交換いただける場があります(自由参加)

4月 28日(金)
7:00~8:00 朝食
9:00~12:00 セミナー
12:35 ホテル →  那須塩原駅 無料送迎バス
申込み方法申込み方法、キャンセル等を以下ボタンから確認の上お申込みください。
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