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グラフェンの商用化に向けた研究開発動向と量産化への課題

  • 日時:2017/05/17(水)  13:30~16:30
  • セミナー番号:C170517
  • 主催:シーエムシー・リサーチ
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本セミナーの趣旨  ここ数年グラフェンは合成技術、量産技術、用途開発などすべての方面において大きく進展し、工業利用が一部始まっている。本講座ではグラフェンの特性および合成法の基礎をレビューし、それをもとに最新の技術開発を議論する。特にグラフェンと関連する二次元材料との組み合わせが実用上重要であり、これについても織り交ぜて講演する。
 さらに現在進められている用途開発と直面する課題について検討し、グラフェンと二次元材料の可能性と今後の展開について議論する。具体的にどのような分野で実現しそうなのか、世界的な開発の方向性はどうかなど、世界的な動向を把握する機会とし、これからグラフェンの取り扱いを始めたい方から、グラフェンの開発をすでに進めている方まで、それぞれのフェーズに合わせて業務に役立つ講座とする。
プログラム

1. グラフェンの特性
 1.1 特性のまとめ
 1.2 電気的特性・光学的特性の基礎
 1.3 機械的特性
 1.4 熱的特性
 1.5 ガス透過性

2. グラフェン研究開発の歴史
 2.1 グラフェンの理論的予測
 2.2 最初のグラフェンの発見
 2.3 グラファイトのテープ剥離による世界初のグラフェンの単離
 2.4 エポックメーキングな実験
 2.5 日本の炭素材料開発およびグラフェン開発

3. グラフェンの形成法
 3.1 剥離などによるグラフェンの形成
 3.2 酸化グラフェンおよび酸化グラフェンの還元による剥離グラフェンの
    形成
 3.3 酸化グラフェンを経ない剥離グラフェンの形成
 3.4 熱CVDによるグラフェンの形成
 3.5 プラズマを利用したグラフェンのCVD合成
 3.6 グラフェンの高スループットCVD合成の試み
 3.7 その他

4. グラフェンの量産に向けた試みと現状の課題
 4.1 酸化グラフェン大量生産の現状
 4.2 CVDグラフェンのロールツーロール合成の試み

5. バンドギャップを形成する試み (半導体用途を目指して)
 5.1 二層グラフェンによるバンドギャップ形成
 5.2 ナノリボンによるバンドギャップ形成

6. グラフェンの用途開発の現状
 6.1 透明導電膜用途
 6.2 バッテリー関連用途
 6.3 フィルタレーション用途
 6.4 ガス高純度化用途
 6.5 センサー用途
 6.6 その他

7. 世界のグラフェン研究開発動向
  

講 師長谷川 雅考 氏
(国研)産業技術総合研究所 ナノ材料研究部門 炭素系薄膜材料グループ 研究グループ長 >講師略歴
会場ちよだプラットフォームスクウェア 501会議室 東京都千代田区神田錦町3-21

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受講料
(税込)
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*2名同時申込で両名ともメルマガ登録をしていただいた場合2人目は無料です。
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★アカデミック価格35,000 円(税込)
*アカデミック価格:学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校
 法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
備考①本セミナーの事務処理・受講券の発送等はシーエムシーリサーチが行います。
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