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レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

~レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術など~

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プログラム

1.リソグラフィの基礎
 (1)リソグラフィーとは
 (2)露光システムとリソグラフィー装置の変遷

2.レジスト材料とその高性能化
 (1)パターンニング用レジスト材料(総論)
 (2)G線、i線用レジスト
 (3)KrF用レジスト
 (4)ArFおよびArF液浸用レジスト
 (5)EUV用レジスト

3.レジスト製造技術と品質管理
 (1)レジスト製造技術
 (2)レジストの性能安定化技術
 (3)品質管理-その項目と方法

4.レジスト材料の評価技術
 (1)性能評価
 (2)品質評価
 (3)シミュレーション技術

5.レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
 (1)種々のトラブルとその解決策(材料面から)
 (2)種々のトラブルとその解決策(プロセス面から)
 (3)顧客対応の方法

6.20nm以下のリソグラフィー技術
 (1)ダブルパターンニング技術
 (2)DSA技術とその材料
 (3)ナノインプリント技術
 (4)今後のリソグラフィー技術

【質疑応答・名刺交換】

受講対象者(1)レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売
(2)半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、
   販売
 上記に従事されている方々およびリーダークラスの方々
学べる事・レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
・レジストの品質管理手法
・レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
・リソグラフィープロセスの最適化方法
・リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力
・素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力
講 師花畑 誠 氏
富山県立大学 工学部 機械システム工学科 客員教授 工学博士 
会場商工情報センター(カメリアプラザ)9F 第2研修室 東京都江東区亀戸2-19-1

MAP

受講料
(税込)
非会員:49,980円 案内会員:1名47,250円,2名49,980円
※資料付
※案内会員(無料)登録していただいた場合、通常1名様49,980円から
 ★1名で申込の場合、47,250円へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名様とも会員登録された場合、計49,980円(2人目無料)で
  す。
備考①定員:30名
    ※ 現在、お申込み可能です。
    満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考②本セミナーの事務処理・受講券の発送等はR&D支援センターが行います。
申込み方法申込み方法、キャンセル等を以下ボタンから確認の上お申込みください。
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